乾 燥

理想的な光波の長さ – 簡単なシステムへの組み込み – 最適なサービス範囲

加工プロセス

高出力レーザにより、インクの古典的な乾燥方法の1つを補助することができます。いわゆる吸収、つまり、プリントされた措置によるインクの吸収です。レーザ光線はインクの層を乾燥させ、インクオイルの粘度を下げます。これにより、インクは流動的になり、プリントされた素地からより迅速に取除かれます。使用されるレーザ光線のスペクトル範囲は近赤外(NIR)、正確に言うと、および900~1070 nmの波長内にあります。

半導体レーザのプロセスの利点

インクのレーザによる乾燥を実現するために、ビーム光源は大抵直接プリント装置に組み込まれます。その際、通常、レーザ光源の非常にコンパクトな構造と出力ビームに対するファイバー結合が必要です。高いエネルギー効率、長い耐用性、極端に低い保守費用により、半導体レーザは経済的な視点でも優れています。

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応用例

オフセット塗料層のシステムに組み込まれたレーザ乾燥

レーザ光源を直接プリント装置に組み込むことは、オフセット塗料層の理想的なレーザ乾燥の前提となっています。そうすることによってのみ、できるだけ効率的な乾燥および経済的なプロセス管理を達成することができます。そのためには、レーザヘッド、供給ユニット、必要なホモジナイザーおよびライン光学系を規定の取り付けスペースに正確に設置する必要があります。これには、コンパクトかつ個別に調整可能なコンポーネントが必要です。レーザーラインの半導体レーザおよび光学系は、これらの前提条件を理想的に満たしています。モジュール式かつコンパクトな構造により、すべてのコンポーネントをお客様固有のニーズに正確に合わせることができます。性能の低下を心配する必要はありません。極めてコンパクトな構造にも関わらず、レーザーライン半導体レーザは2桁のキロワット範囲で問題なく性能を発揮することができます。